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干法蚀刻也是目前的主流技术蚀刻，这是由等离子体干法蚀刻为主。光刻仅使用上的图案的光致抗蚀剂，但也有是在硅晶片上没有图案，所以干蚀刻等离子体用于蚀刻硅晶片。
关于功能，处理和蚀刻精密零件的特性。正被处理的产品的名称：分配器的胶合复合片材。该材料的具体产品：SUS304H-CSP材料厚度（公制）：0.1-0.5mm本产品的主要目的：先进的胶注射机的喷嘴，喷雾胶均匀
清洗后，该材料也需要被干燥，并且最适合的材料被用于去除所述保护涂层，然后可以进行最后的步骤，以完成表面。
切割和切割后，将不锈钢板将显示环境和操作过程中在金属表面上的指纹或其他污垢。如果表面润滑脂没有清理，后处理的缺陷率会大大增加。因此，片材的表面必须脱脂和油墨印刷/涂布之前进行清洗。
它被用作在石油工业中，泥清洁剂，如在化学和化学纤维工业的筛过滤器，并且如在电镀工业酸清洁剂。 2）用于矿山，石油，化工，食品，医药，机械制造等行业。 3）应用于空调，抽油烟机，空气过滤器，除湿机等设备。 4）它是用于过滤，除尘和分离在各种环境中。
镜面处理;这种治疗可以在管芯上的前端的模具的侧去除颗粒，以实现镜面效果。当产品被冲压和拉伸，它可以有效地解决带出毛刺和灰尘和平滑产品的边缘的问题。它适用于冲压产品的更高的要求。我公司是目前在中国大陆镜刀的制造商。简单地说，金属蚀刻工艺是冲压工艺的延伸。冲压是模具的开口。但是，随着行业的发展，零部件的精度要求越来越高。冲压过程不能再解决和满足开发和生产的需要。此外，还有一个蚀刻工艺。金属蚀刻也被称为光化学蚀刻或光化学蚀刻。
应用：主要做合成纤维的原料。短纤维可与棉花、羊毛、麻混纺，制成服装用纺织品或室内装饰用布；长丝可做服装用丝或工业用丝，如用于滤布、轮胎帘子线、降落伞、输送带、安全带等。薄膜可作片基，用于感光胶片、录音磁带。注射模塑件可做包装容器。
(1)蚀刻液中cl-浓度对蚀刻速度的影响：在酸性CuCl2蚀刻液中，cu2和cu+都是以络离子状态存在于蚀刻液中。铜由于具有不完伞的d-轨道电子壳，所以它足一个很好的络合物形成体。一般情况下，可形成四个配位键。当蚀刻液中含有大量的cl-时，cu2+是以四氯络铜([CuCl4]2)的形式存在．cu2足以三氯络铜([cucl3]2)的形式存牲。凶此蚀刻液的配制和再生都需要大量的cl参与反麻。同时cl浓度对蚀刻速度同样有直接关系，c1浓度高有利于各种铜络离子的形成，加速了蚀刻过程。