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常见类型的蚀刻铝的有：1点蚀，也被称为点蚀，由金属制成的，其产生针状，坑状局部腐蚀图案，并且空隙。点蚀是阳极反应的唯一形式。这是促进和所有腐蚀性条件，这导致催化工艺下点蚀坑下保持。 2.腐蚀氧化铝膜的，即使它可以溶解在磷酸和氢氧化钠溶液，即使发生腐蚀，溶解速率是均匀的。为一体的集成解决方案的温度升高时，溶质的浓度在它增加，这促进了铝的腐蚀。 3.缝隙腐蚀缝隙腐蚀局部腐蚀。
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与锡为主要合金元素的铜合金（1）锡青铜被称为锡青铜。其中在工业中使用的锡铜器中，锡含量为大多3 ND和14个锡青铜之间。有一个锡含量适合在小于5秒的冷处理？ ？ ？ ？ ;？是锡青铜的O7第二与锡含量为5秒适于热加工？ ;锡青铜有锡含量大于10？适用于铸造。锡青铜广泛用于造船，化工，机械，仪器仪表等行业。它主要用来制造轴承，衬套和其它耐磨零件，弹簧等弹性部件，以及耐腐蚀和抗磁性组件。
（1）普通黄铜普通黄铜是铜和锌的二元合金。由于其良好的可塑性，这是非常适合于板，棒，线，管和深冲部件如冷凝器管，散热器管及机械和电气部件的制造。黄铜62的Δnd59？铜的平均含量也可以投，这被称为铸造黄铜。
的主要应用是：蚀刻过程。此过程可以有效地匹配所使用的材料的厚度和解决不锈钢小孔加工的问题。特别是对于一些小的孔密度，高容量的要求，也有非常独特的加工方法。将处理过的不锈钢小孔具有相同的孔壁，孔均匀的尺寸和圆度好无毛刺。
引入功能，处理和蚀刻精密零件的特性。加工产品名称：真空吸尘器。材料的具体产品：SUS304H 301H不锈钢。约0.05mm与1.0mm：材料（公制）的厚度。本产品的主要目的：各种类型的真空吸尘器的过滤器。
可以理解的是在芯片的整个制造工艺极为复杂，包括晶片切割，涂覆，光刻，蚀刻，掺杂，测试等工序。腐蚀是在整个复杂的过程，唯一的过程。从技术的观点来看，R＆d光刻机是最困难的，并且所述蚀刻机的难度相对较低。蚀刻机的精度水平现在远远??超过光刻机的，所以与当前的芯片的最大问题是不蚀刻精度，但是光刻精度，换言之，芯片制造技术水平决定了光刻机。
在印刷电路工业中，它的变化范围很宽泛，从1：1到1：5。显然，小的侧蚀度或低的蚀刻因子是最令人满意的。 蚀刻设备的结构及不同成分的蚀刻液都会对蚀刻因子或侧蚀度产生影响，或者用乐观的话来说，可以对其进行控制。