蚀刻技术属于感光化学技术领域,是用光刻腐蚀加工薄形精密金属制品的一种方法。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
　　金属蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。金属蚀刻材料：优质不锈钢、金属、合金薄板或带、一般厚度为0.5mm。制作工艺：化学法浸蚀。金属蚀刻用途：金属蚀刻用于集成电路印刷，荧光屏电子格栅，精确过滤，微电极元件，电子行业的平面引脚、引线框架、基片等。还可制造标牌、商标及精美工艺品。
　　金属蚀刻技术优势：1金属蚀刻技术改进了传统的金属处理方法。2、这种金属蚀刻技术可以通过数据,设计及复杂的柱状等来加工凹凸的金属产品。3、蚀刻技术可以用于制作为孔型及各种形式。蚀刻化学反应过程中所产生的气泡常会造成蚀刻的不均匀性，气泡留滞于基材上阻止了蚀刻溶液与待蚀刻物表面的接触，将使得蚀刻速率变慢或停滞，直到气泡离开基材表面。因此在这种情况下会在溶液中加入一些催化剂增进蚀刻溶液与待蚀刻物表面的接触，并在蚀刻过程中予于搅动以加速气泡的脱离。金属蚀刻技术广泛应用于集成电路、荧光显示屏、精确过滤、微电极等方面。

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