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曝光将产生的图像线宽度的偏差。曝光过度会使图形线条更薄，使产品线更厚。根据发达晶片的亮度，所述图像是否是清楚，无论是薄膜，图像线宽度是相同的原稿，参数诸如曝光机和感光性能确定最佳曝光时间。

对于0.1毫米材料，特别要注意在预蚀刻过程中，如涂覆和印刷，这是因为材料的尺寸也影响产品的最终质量。该材料的尺寸越大，越容易变形。如果材料的尺寸过小，则可能在机器被捕获。

铜铜是工业纯铜。其熔点为1083℃，不存在同素异形变化，并且相对密度为8.9，这是五倍镁。这是约15？ eavier比普通钢。它有一个玫瑰红的颜色，并且当所述表面上形成的氧化膜，它通常被称为红色铜和是紫色的。它是含有一定量的氧的铜，因此它也被称为含氧铜。

金属的蚀刻使用：（1）去毛刺。冲压或不锈钢加工后，有端面或角部，这不仅影响了产品的外观，而且还影响到使用机器。如果使用机械抛光或手工去毛刺，不仅工作效率低，但它不能满足四舍五入的设计要求。特殊化学抛光或电化学抛光溶液用于腐蚀毛刺而不损坏表面光洁度，和甚至提高表面光洁度。这是表面处理和加工的组合。

当使用铝作为待蚀刻的金属，它必须除去从0到铝3以电离它。有银（1个值）或铜（2值）进行比较，在由于蚀刻速度蚀刻液中的酸消耗急剧降低，有一个问题，即难以控制蚀刻速度。因此，在间歇方法如浸渍法，一旦蚀刻剂的蚀刻速率大于一定值的情况下，即使蚀刻剂残留的蚀刻能力的最，它通常是完全丢弃并用一个新的蚀刻剂替换。有一种所谓的蚀刻剂的使用量和浪费是很大的。

根据本发明的蚀刻方法中，常规的蚀刻溶液的寿命可以通过约两倍进行扩展。与此同时，在使用前的蚀刻溶液的组成，稀释剂组分如乙酸容易挥发由于沸点，并且如果挥发，除乙酸以外的酸浓度浓缩。在这个意义上，一个额外的系统是必需的，以控制醋酸的浓度。如果酸和氧化剂进行调整，随后的蚀刻速度可维持在一定间隔的初始蚀刻速率，可实现稳定的长期腐蚀。通过由2次延伸的液体的使用寿命，因为废物的数量减少了一半它是有效的。通过除去乙酸和硝酸的方法中回收的磷酸组分可以开辟了以重新用作通过中和氯化肥料。

什么是蚀刻最小光圈？该蚀刻工艺不能处理所有的附图中，且具有一定的局限性。几个基本原则应注重设计的图形：蚀刻孔= 1.5 *所述材料的厚度是，例如，0.2毫米厚。开口直径= 0.2×1.5 =0.3毫米如果需要最小的孔，小孔可制成，而且它也取决于该图的结构。孔和材料的厚度之间的线宽度为1：1，例如，该材料的厚度为0.2mm，且剩余线宽度为约0.2毫米。当然，这还取决于产品的整体结构。对于后续的咨询工程师谁是设计产品，并分别讨论了特殊情况下的基本原则。

它是含有一定量的氧的铜，因此它也被称为含氧铜。红铜箔得到，因为它的紫红色而得名。它不一定是纯铜，并且它有时加入的材料和性质，以改进脱氧元素或其他元素的量，所以它也被分类为铜合金。中国铜处理材料可分为普通铜（T1，T2，T3，T4），无氧铜（TU1，TU2和高纯度，真空无氧铜），脱氧铜（TUP，TUMn），和一个小合金的量有四种类型的特殊铜（铜砷，碲铜，银铜）。

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