长安蚀刻铝 曝光是在紫外光照射下,光引发剂吸收光能分解成游离基,游离基再}i发不聚合单体进行聚合交联反应,反应后形成不溶于稀碱溶液的体型大分子结构。曝光一般在自动双面...
高埗蚀刻铝 显影 显影是用5~12的Na2CO3,溶液,显影温度30℃-40℃。显影机理是感光膜中未感光部分的活性基团与稀碱溶液反应生成可溶性物质而溶解下来,显影时活性基团羧基一COOH与...
谢岗蚀刻加工 在使用干膜进行图文转移时,由于干膜本身的缺陷或操作工艺不当,可能会出现各种质量问题,表3-11列举出了在生产过程中可能产生的故障及排除方法供参考。...
企石蚀刻加工 液体光致抗蚀剂的工艺流程:基板前处理-涂覆一烘烤一曝光一显影-图形转移效果自检-干燥-蚀刻或图形电镀-去膜。 1.基板前处理 基板前处理方法及要求和前述下膜工艺...
厚街蚀刻铝 液体光致抗蚀剂主要采用丝网印刷方式进行涂覆。使用不同网目的丝网可得到不同厚度的膜层,如用200目的丝网,丝网印刷后的膜层厚度为(122)um;选用100目一150目的丝网,...