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用于蚀刻的气体被称为蚀刻气体，并且通常是氟化物气体，例如四氟化碳，perfluorobutadiene，三氟化氮，六氟乙烷，全氟丙烷，三氟甲烷，等蚀刻含氟含氧气体是电子气的一个重要分支。这是一个不可缺少的原料用于生产超大规模集成电路，平板显示装置，太阳能电池，光学纤维和其它电子行业。它被广泛用于薄膜，蚀刻，掺杂，气相沉积和扩散。和其它半导体工艺。在国家发展和改革委员会“产业结构调整指导目录（2011年（年度版）（修订版）”，电子气体被列为鼓励国家级重点新产品和产业的发展，主要类型如表1所示。
ABS树脂可用注塑、挤出、真空、吹塑及辊压等成型法加工为塑料，还可用机械、粘合、涂层、真空蒸着等法进行二次加工。由于其综合性能优良，用途比较广泛，主要用作工程材料，也可用于家庭生活用具。由于其耐油和耐酸、碱、盐及化学试剂等性能良好，并具有可电镀性，镀上金属层后有光泽好、比重轻、价格低等优点，可用来代替某些金属。还可合成自熄型和耐热型等许多品种，以适应各种用
4.能够蚀刻一些凹槽。经常一些产品，如不锈钢或铜或铝的材料，所需要的槽的材料的表面上的处理。一般机械加模式使用一个铣刀。当数量是小的，它可以在一个小的量进行处理，但如果有大量的同类产品，加工能力的亮点产生严重的缺陷。此时，蚀刻工艺也能解决所述槽的材料的表面上的处理。
阳极处理又称为阳极着色处理，也被称做氧化处理。铝的阳极处理是金属表面借由电流作用而形成的一层氧化物膜，颜色丰富、色泽优美、电绝缘性好并且坚硬耐磨，抗腐蚀性极高。其基本原理为：
在17世纪后期，人们已经开始使用蚀刻技术来测量量具的刻度。作为一种工具，它已经从以前的作品不同的待遇。它需要它的产品，这需要蚀刻技术，以达到一定的批量产品。对于高稠度和质量规范一致性的要求精确地为每个进程定义。因为生产批次的水平测量工具不能均匀地校准到彼此，作为结果的测量工具将变得毫无意义。如果一批火炮的尺寸不一致，很明显，这些火炮将无法拍摄了一组指标对同一目标。由于统一的要求，流程规范的历史时刻已经出现。当时，人们可能不会将它定义为一个过程，但它本质上是一样的，它也可以视为过程的原始形式。尤其是在17世纪，由于军事需要结束时，弹道的大小可以计算出来。对于待蚀刻的金属，尺寸，精度和批量一致性是必要的。这时，人们所需要的工艺规范是更为迫切。在此期间，人们发现的第一件事是，这可能是用于固定紫外线的树脂材料。本发明对金属蚀刻的划时代的效果，并提供了开发和金属蚀刻工艺改进技术保证。特别是对于精密电路制造诸如精细图案蚀刻集成电路制造，很难想象，可以在非光敏技术进行处理的任何方法。在20世纪，随着金属蚀刻技术已经解决了，几百年的金属蚀刻技术难题后，人们已经积累了足够的经验，形成了基于这些经验金属蚀刻理论。由于这种治疗方法的逐步成熟，该技术取得了飞速的20本世纪以来的发展。在此期间，感光防腐技术正在逐步改善。此技术的发展包括光敏材料和感光光源的发展。这导致感光设备的开发。金属蚀刻的治疗已被广泛应用于航空一般民用产品。
电泳：最常见的是不锈钢，其具有的色彩丰富，附着力强，和高硬度的特性。电泳是相反电极的带电粒子（色）的电场的作用下的移动。
0.1毫米不锈钢是非常薄，在蚀刻期间容易变形。客户往往要求不仅有0.1mm的材料，同时也非常小的尺寸。在蚀刻行业，如果规模非常小，例如为10mm-20在毫米，它是只有大约相同的尺寸作为我们的手指的直径，从而导致低效的膜去除。因此，更薄，更小的产品，但劳动力成本上升。
蚀刻技术和切割过程之间的不同之处在于蚀刻技术不会产生造成的激光切割废物的残留物。和蚀刻可改变材料的形状，但不是任何材料的特性。激光切割是不同的，这将在部件的边缘创建热影响区的相当大的宽度。
虽然中卫半导体的刻蚀机制造业已经取得了许多成果，美国在自愿放弃其对中国的禁令在2015年另外，据该报称，中国微半导体于2017年4月宣布，它打破了5纳米刻蚀机生产技术，引领全球行业领导者IBM两周。此外，中国微半导体公司还与台积电在芯片代工厂行业中的佼佼者了合作关系，并与高精密蚀刻机耗材台积电。截至目前，中国微半导体公司的5nm的过程更加完备。这是需要注意的重要的，有信息，中国Microsemiconductor已经开始产品研发到3纳米制造工艺。