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金属冲压工艺的特点：高模具成本，很长一段时间，精度低，成本低，并且大批量;金属蚀刻工艺的特征：低样品板成本，交货快，精度高，并且大量生产成本超过冲压高。的化学反应，或使用金属的，能够从物理冲击除去腐蚀性的物质。蚀刻技术可分为两种类型：“湿蚀刻”（湿蚀刻）和“干蚀刻”（干蚀刻）。
在0.1在毫米不锈钢或铜的蚀刻过程中，由于材料太薄，如果是软质材料，也有电机绕组的危险，所以你需要垫一个特殊的屏幕，以帮助蚀刻过程。对于腐蚀和防腐蚀处理薄金属材料，平津都有自己特别的方法和技术，解决了众多客户的腐蚀问题。如果您有腐蚀问题和需要，打个招呼蚀刻将竭诚为您服务。是这种方法通常用于蚀刻？灵活性：它会显示任何形状，就没有必要进行根据节目的模具，只是编辑程序，形状和深度，激光雕刻，打孔，或者你可以个性化或在运行时改变或更改产品包装，而不对于小批量的任何商标注册。钢筋锈蚀通常用于精密蚀刻：公差不超过一毫米的千分之三。它也可以弥补印刷及后期处理之间发生的错误。由于激光可以用于补偿调节，所以难以改变模具。根据传统模切固定。这种方法通常被用于蚀刻处理，并且生产效率高：因为没有必要使模具中，只需要编译程序。后来的任务，时间和精力将被保存。它可以启动，以避免影响生产调整，它是可以改变的前一分钟。无论简单或凌乱的加工形状的，处理成本是相同的，所花的时间基本相同。处理速度能基本相匹配的数字印刷的速度，并且其可以被连接到机器用于生产。钢筋锈蚀的这种方法通常用于蚀刻工艺的经济效益：是否有必要准备，处理任务的规模，业务来源将扩大模具。在传统模切过程中，有不仅各种核（如平坦压制，轮压制，冲压，穿孔，压痕，等），但支撑的东西也凌乱，现在可以省略。
在蚀刻工艺期间，存在除了整体蚀刻方法没有防腐蚀处理。我们一定要注意防腐蚀层，这就是我们常说的下侧的耐腐蚀性的“蔓延”。底切的大小直接相关的图案的准确度和蚀刻线的极限尺寸。一般地，抗腐蚀层下的横向蚀刻宽度A被称为侧蚀刻量。侧蚀刻量A的蚀刻深度H之比的蚀刻速率F侧：
去毛刺（1）：蚀刻金属的目的。冲压或不锈钢加工后，有端面或角部，这不仅影响产品的外观，而且还影响所使用的机器。如果使用机械抛光或手工去毛刺，不仅工作效率低，但它不能满足四舍五入设计要求。特殊化学抛光或电化学抛光液体被用来腐蚀毛边而不损坏表面光洁度，和甚至提高了表面光洁度。这是表面处理和加工的组合。
符号的说明：1蚀刻槽;分析装置2循环泵; 3硝酸/磷酸/乙酸浓度分析装置; 4蚀刻材料; 5新的乙酸液罐; 6新的乙酸液供给泵; 7加热装置; 8乙酸浓度的输出信号; 9蚀刻终止废液去除管道; 10个新的蚀刻液（浓度调整磷酸/硝酸/乙酸）引入管道; 11搅拌装置; 12蚀刻废液去除调整和发送输出信号; 13米; 14。为入口信号新蚀刻液; 15个新的蚀刻液罐; 16个新的蚀刻液供给泵。
3.完整性。所谓完整性指的是在处理流程的至少两个或更多个步骤。因为处理流作为一个过程不能在一个处理步骤中完成，并且在同一时间，该处理步骤不能在工艺流程中完成。至少有两个或多个步骤和相关活动可以建立一个可转让的基本结构或关系。用在金属蚀刻工艺，它也是一个完整的工艺规范来统一多个进程的组合物，每一个过程，工具和在每个处理中指定的相关设备的处理参数，并且它们是彼此不可分离。此后，将不锈钢蚀刻工艺也是非常重要的。首先，我们需要清理已铭刻在时间，因为使用腐蚀性液体的高度腐蚀性物质。如果它们不清洗，蚀刻溶液将保留在材料的表面上，从而允许材料的连续腐蚀。处理后，该材料会改变颜色或原始效果将被破坏。
直腰西安博士说，中卫半导体也跟着这条路线，取得了5nm的。中卫半导体是由直腰西安博士创立，主要包括蚀刻机，MOCVD等设备。由于增加光刻机的，他们被称为三大半导体工艺。关键设备，以及在5nm的过程这里提到指用于等离子体为5nm的过程中的蚀刻机。
磷化工艺可采用喷淋或浸渍施工的方式进行，为了控制磷化液的组成和施工的进行，Zn含量、总酸、游离酸的浓度必须维持在特别推荐的范围内。如使用喷淋方式，工件外表面应是一个均匀的低压层状喷淋，必须选择合适的喷嘴以及排布适当的位置。浸渍施工可使所有的表面包括箱式结构的内侧被磷化膜覆盖。浸渍施工的控制参数与喷淋施工是不相同的；并且通过浸渍所得到的磷化膜具有较高的P比。P比反映了磷化膜中Zn-Fe磷酸盐的百分含量。当底材为冷轧钢板时磷酸锌系膜主要由磷酸铁锌盐及磷酸锌组成，磷酸铁锌含量高的（P比高）磷化膜，可全面提高与电泳涂膜（阴极电泳膜）的结合力。转化膜形成后，需进入水洗工艺。可采用喷淋或浸渍方式来进行水洗操作，主要目的是为了清洗磷化带来的酸和磷化残渣。