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据介绍，由中国微半导体公司生产的刻蚀机已达到5纳米的工艺技术水平，每个的价格高达20万元。虽然价格较高，但仍然受到TSMC青睐。目前，中国微半导体公司生产的芯片5纳米刻蚀机采用了苹果系列TSMC生产的A14麒麟1020系列芯片。
曝光和显影在蚀刻工艺在金属蚀刻过程中的作用主要介绍了曝光工艺，还引入了金属蚀刻的曝光原则。曝光是对产品质量非常重要。意格硬件的金属蚀刻工艺的曝光质量控制的关键点保证了产品的质量。金属材料需要被放入蚀刻机之前要经过多个进程。曝光就是其中之一。它可以被称为在金属蚀刻中使用的光的技术。所述金属材料进行脱脂后，清洗，并涂，必须将其烘烤以固化暴露之前与它连接的光敏墨水。在金属蚀刻工艺中曝光实际上是相同的摄影胶片。在金属材料上的取向膜膜粘贴，把它放入曝光机，并暴露了几秒钟，在胶片上的膜图案被印刷在不锈钢。曝光机是精密机器，并且在车间必须是无尘车间，和操作技术人员必须佩戴静电西装。 Xinhaisen专注于高端精密蚀刻。工厂配有10,000级的无尘车间，以控制曝光的质量。
在蚀刻工艺期间，存在除了整体蚀刻方法没有防腐蚀处理。我们一定要注意防腐蚀层，这就是我们常说的下侧的耐腐蚀性的“蔓延”。底切的大小直接相关的图案的准确度和蚀刻线的极限尺寸。一般地，抗腐蚀层下的横向蚀刻宽度A被称为侧蚀刻量。侧蚀刻量A的蚀刻深度H之比的蚀刻速率F侧：
蚀刻被大量应用在制作电路板上的铜质线路，在一般产品的应用上则以金属片材的外观装饰为主。在电梯墙板或是大楼建材饰板上常常可以见到带有纹路的金属，就是以不锈钢板材蚀刻制作的。在一般的消费性产品上，则比较容易见到铝合金蚀刻的应用，铝板上的花纹或是文字 logo常常是蚀刻加工所制作。另外，蚀刻也常常用来制作各式金属网，例如：果菜机里的金属滤网、电子产品的喇叭出音网孔、或是模型玩家用来制作飞机船舰模型时的改装蚀刻片。
为了调整对应于所述的酸性部分和/或在蚀刻溶液中的硝酸的浓度的浓度，它是足够的蚀刻后，以磷酸和/或硝酸添加到蚀刻溶液。然而，在本发明的一个优选实施例中，蚀刻被添加到剩余的硝酸和/或在从所述蚀刻步骤中的提取后的蚀刻溶液磷酸，以及蚀刻液的溶液的浓度后的一部分被调整为相同的值是蚀刻对应于蚀刻液中的酸成分的浓度之前。
一般来说，实际加工精度取决于在上一步中的光刻精度。具体而言，蚀刻机必须与芯片的精度相一致。因此，蚀刻机几乎是作为光刻机重要。
蚀刻是使用化学反应或物理冲击以去除材料的技术。蚀刻技术可分为湿式蚀刻和干法蚀刻。通常称为刻蚀也被称为光化学蚀刻，它指的是去除的区域的保护膜的曝光和显影，以及暴露于化学溶液后待蚀刻的蚀刻，以实现溶解和腐蚀的效果。点形成或挖空。