镇江不锈钢蚀刻加工厂

该晶片用作氢氟酸和HNO 3，并且晶片被用作氢氟酸和NH4F氧化硅硅：蚀刻剂的选择是根据不同的加工材料确定，例如。当集成电路被化学蚀刻，被蚀刻的切口的几何形状是从几何切割通过化学蚀刻在航空航天工业没有什么不同。然而，它们之间的蚀刻深度差异是几个数量级，且前者小于1微米。然后，它可以达到几毫米，甚至更深。

对于这样的要求，而不是传统上使用的铬（Cr）合金布线的材料，如铬钼，我们讨论了适用于精细蚀刻加工，并能承受的增加的低电阻材料的电功率要求的材料。例如，现在，新的材料，如铝（A1），银，铜等，提出了被用作布线材料，以及这种新材料的微细加工进行了讨论。此外，在这些新材料的蚀刻，蚀刻含硝酸，磷酸和乙酸溶液，通常使用。

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2.化学式为的不锈钢蚀刻的精度??。对于相同的材料，化学蚀刻的化学式，如浓度，温度，有着直接的关系。

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