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添加CL可以提高蚀刻速度的原因足：在cucL2溶液中发牛铜的蚀刻反应时，生成的cu2c12不易溶于水．则在铜的表面形成一层cucl膜，这种膜能阻止蚀刻过程的进一步进行。这时过量的cl能与cu2cL2络台形成可溶性的[cucl3]2-从铜的表而溶解下求，从而提高了蚀刻速度。
这一过程涉及物理学和光学的组合效果。蚀刻机实际进行小型化和芯片的微型雕刻。每一行和深孔的精度需要非常精细，精度要求非常严格。
电泳：最常见的是不锈钢，其具有的色彩丰富，附着力强，和高硬度的特性。电泳是相反电极的带电粒子（色）的电场的作用下的移动。
该晶片用作氢氟酸和HNO 3，并且晶片被用作氢氟酸和NH4F氧化硅：蚀刻剂的选择是根据不同的加工材料确定，例如。当集成电路被化学蚀刻，被蚀刻的切口的几何形状不是从在航空航天工业的几何切削通过化学蚀刻不同。然而，它们之间的蚀刻深度差异是几个数量级，且前者小于1微米。然后，它可以达到几毫米，甚至更深。
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在实验室的情况下，对某些工件的蚀刻为了取得一些对比效果或为了取得一些实验数据，可能并不对工件进行除油处理而直接进行防蚀层制作。就目前而言，生产中所采用防蚀材料都不是水溶性的，调配都是采用有机溶剂，而有机溶剂对工件表面的皂化或非皂化油都有溶解作用，都会为防蚀层提供一个结合力。作为这方面的实验者也可能会把这种情况介绍出来，但其目的并不是要告诉读者“工件污染不严重就可以不除油而直接进行防蚀处理或其他加工过程”。所以，读者在查阅这些资料时，首先要做的是正确领会作者的真实意图，然后才是根据自己所在企业的实际情况去引用这些技术。
金属冲压工艺的特点：高模具成本，很长一段时间，精度低，成本低，并且大批量;金属蚀刻工艺的特征：低样品板成本，交货快，精度高，并且大量生产成本超过冲压高。的化学反应，或使用金属的，能够从物理冲击除去腐蚀性的物质。蚀刻技术可分为两种类型：“湿蚀刻”（湿蚀刻）和“干蚀刻”（干蚀刻）。
等离子体刻蚀机的工作原理是一样的喷射研磨机，其中轰击装置的表面并喷射砂以实现处理的目的。为了获得用于将处理对象的预定图案，模具必须喷雾之前被放置在工件上。这就好比我们喷漆前用开纸，不要把它贴在墙上的喷涂区域。
镀铬是泛指电镀铬，镀铬有两种的，一种是装饰铬，一种是硬铬。镀硬铬是比较好的一种增加表面硬度的方法，但它也是有优缺点的，那么精密蚀刻
①：是在上挂工件表面手工揩擦或高压喷雾脱脂剂，或者擦前处理供应商提供的手工脱脂剂（膏），为下道脱脂工位作准备，并且要保持工件表面湿润，以防疏松的脏物再干燥，因为若除去不净会导致磷化层出现斑纹病态。