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蚀刻技术属于感光化学技术领域, 是用光刻腐蚀加工薄形准确金属制品的一种方法。其基本原理是利用化学感光材料的光敏特性, 在基体金属基 片两面均匀涂敷感光材料采用光刻方法, 将胶膜板上栅网产显形状准确地复制到金属基片两面的感光层掩膜上通过显影去除未感光部分的掩膜, 将裸露的金属部分在后续的加工中与腐蚀液直接喷压接触而被蚀除,后面获取所需的几何形状及高精度尺寸的产品技术蚀刻技术
蚀刻一共有两大类：
1：干式蚀刻;
2:湿式蚀刻。
较早的蚀刻技术是利用特定的溶液与薄膜间所进行的化学反应来去除薄膜未被光阻覆盖的部分，而达到蚀刻的目的，这种蚀刻方式也就是所谓的湿式蚀刻。因为湿式蚀刻是利用化学反应来进行薄膜的去除，而化学反应本身不具方向性，因此湿式蚀刻过程为等向性，一般而言此方式不足以定义3微米以下的线宽，但对于3微米以上的线宽定义湿式蚀刻仍然为一可选择采用的技术。
湿式蚀刻的优点：低成本、高可靠性、高产能及优越的蚀刻选择比。但相对于干式蚀刻，除了无法定义较细的线宽外，湿式蚀刻仍有以下的缺点：
1) 需花费较高成本的反应溶液及去离子水；
2) 化学药品处理时人员所遭遇的安全问题；
3) 光阻附着性问题；
4) 气泡形成及化学蚀刻液无法完全与晶圆表面接触所造成的不完全及不均匀的蚀刻；
5) 废气及潜在的爆炸性。