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与锡为主要合金元素的铜合金（1）锡青铜被称为锡青铜。其中在工业中使用的锡铜器中，锡含量为大多3 ND和14个锡青铜之间。有一个锡含量适合在小于5秒的冷处理？ ？ ？ ？ ;？是锡青铜的O7第二与锡含量为5秒适于热加工？ ;锡青铜有锡含量大于10？适用于铸造。锡青铜广泛用于造船，化工，机械，仪器仪表等行业。它主要用来制造轴承，衬套和其它耐磨零件，弹簧等弹性部件，以及耐腐蚀和抗磁性组件。
3.激光蚀刻方法的优点是，所述线性边缘整齐，不存在侧面蚀刻现象，但成本非常高，大约两倍的化学蚀刻法。当打印在印刷电路板工业的焊膏，大多数所使用的不锈钢筛网的通过激光蚀刻。
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通常被称为光化学蚀刻（人蚀刻）是指其中待蚀刻的区域暴露于制版和显影后的曝光区域的面积;和蚀刻到达通过与化学溶液接触造成的，从而形成不均匀的或中空的生产的影响的溶解和腐蚀。
本发明涉及一种金属蚀刻方法，并且更具体地，涉及使用光敏树脂或类似的过程中，液晶元件的基板例如以促进在金属薄膜电极的形式，或金属作为布线的制造工艺一种半导体器件（层）基片蚀刻的所述衬底是合适的处理方法。此外，本发明涉及蚀刻溶液的上述定量分析方法，并从上述的蚀刻溶液中回收磷酸的方法。对于这样的要求，而不是传统上使用的铬（Cr）合金布线的材料，如铬钼，我们讨论了适用于精细蚀刻加工，并能承受的增加的低电阻材料的电功率要求的材料。例如，现在，新的材料，如铝（A1），银，铜等，提出了被用作布线材料，以及这种新材料的微细加工进行了讨论。此外，在这些新材料的蚀刻，蚀刻含硝酸，磷酸和乙酸溶液，通常使用。
4.如果模具组是不适合的，该系统将搜索在小冲压模具库大方形或圆形模头，并且使用符合冲压更大的要求的直管芯大于或等于1.5倍的边长。
据悉，虽然中国半导体科技的蚀刻机已经在世界的前列，继续克服新问题。据悉，中国Microsemiconductor已经开始制定一个3纳米制造工艺。