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万江蚀刻铝氧化锡/铟氧化锡蚀刻剂TE-100 是应用于微电子行业的氧化锡/铟氧化锡层的选择性蚀刻剂，可高效的对陶瓷，绝缘层，半导体和多种金属底层上的氧化锡/铟氧化锡沉淀膜进行蚀刻，具有边界清晰，蚀刻速度可控的特性，与正负性光刻胶良好兼容。TE-100 不可用于含镍，铜，镍锘合金和铝的材质。
特性：
外观--深琥珀色
蚀刻率（室温25°C）--15-20 ? / sec（浸没）
工作温度--40-50 °C
漂洗--去离子水
存储--20-25 °C
有效期--一年（15-25 °C）
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铬蚀刻剂Chromium Etchants
1020 and 1020AC
Transene的1020和1020AC铬蚀刻剂是一种高纯度可精确清洁蚀刻铬或氧化铬薄膜的硝酸铵铈产品，1020AC是不含硝酸的低速蚀刻剂，两种产品均可配合正负性光刻胶使用，1020 为渗入型，最小蚀刻尺寸达到0.2微米，1020AC可完成微细凹槽蚀刻，使用后用去离子水清洗即可
特性
1020 1020AC
外观： 透明，橙色 透明，橙色
比重 1.127-1.130 1.127-1.130
滤透尺寸 0.2 micron -----
工作温度 可变 可变
蚀刻率（ 40 °C） 40 ? / sec 32 ? / sec
存储 室温 室温
清洗 去离子水 去离子水
应用：蚀刻温度根据膜的厚度不同变化，室温下蚀刻时间从15秒到60秒。注意：操作必须在通风罩内进行。
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铬金属陶瓷蚀刻剂TFE（Chromium Cermet Etchant TFE）
铬金属陶瓷蚀刻剂TFE是一种应用于微电子行业的选择型铬蚀刻剂，可高效的蚀刻沉积在铜，镍，金底层上的铬薄膜。此种铁氰酸钾为主要成份的蚀刻剂仅可和负性光刻剂融合，另外，在TFE是蚀刻氧化铬，硅化铬和硅铬氧化沉积层的最佳选择。
特性：
外观： 琥珀色
蚀刻率： 15-20 ? / sec（50 °C）
工作温度： 40-60 °C
清洗： 去离子水
存储： 室温
光刻胶： 负性
兼容金属：金，铜，镍
应用：铬金属陶瓷蚀刻剂TFE是专用于蚀刻铜，金，镍材质感光底层上的铬，氧化铬，硅化铬和硅氧化铬薄膜的蚀刻剂。对于厚度较大的薄膜可以通过加热到40-60 °C以加快蚀刻速度
剥离剂 剥离剂（stripping agent）能将生物及其生成的粘泥从换热设备的金属表面或冷却塔壁上剥离的药剂。
显影液 developer
银盐胶片显影用的药液称显影液。
用于黑白胶片显影的显影液称黑白显影液，用于彩色胶片显影的称彩色显影液。
显影液的主要成分是显影剂。为了完善性能，通常还加一些其他成分，诸如促进显影的促进剂，防止显影剂氧化的保护剂，防灰雾生成的灰雾抑制剂和防灰雾剂等。
通过对各组分不同用量的调配可以得到不同性能的显影液，如微粒显影液、高反差显影液等......