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2)蚀刻液的种类：不同的蚀刻液化学组分不同，其蚀刻速率就不同，蚀刻系数也不同。例如：酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常为3，碱性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数可达到4。近来的研究表明，以硝酸为基础的蚀刻系统可以做到几乎没有侧蚀，达到蚀刻的线条侧壁接近垂直。这种蚀刻系统正有待于开发。
滤波器特性：直接过滤，工艺简单，透气性好，均匀和稳定的精度，无泄漏，良好的再生性能，快速再生速度，安装方便，高效率和长使用寿命。通常情况下，过滤器覆盖，并通过激光器使用，但是这两种方法都有相同的缺点。冲孔和激光加工将有毛刺的大小不同。化学蚀刻是一个新兴的过程。该产品是可变形的，并且取决于材料的厚度无毛刺蚀刻不能达到+/- 0.001的处理。金属蚀刻工艺盖以保护第一部分，其是丝网印刷或丝网印刷在基板上，然后化学或电化学方法用于蚀刻不必要的部分，最后保护膜被去除，以获得治疗产物。它是在印刷技术的应用中的关键步骤，例如初始生产迹象，电路板，金属工艺品，金属印刷，等等。由于导线电路板的导线是薄且致密的，机械加工难以完成。不同的金属材料具有不同的性质，不同的蚀刻图案精度和不同的蚀刻深度。在制备中使用的蚀刻方法，工艺和蚀刻溶液是非常不同的，和所使用的光致抗蚀剂材料也不同。
应该丝网印刷前应进行干燥。如果有湿气，它也将影响油墨，这将影响随后的图案蚀刻，甚至混叠，这将影响的装饰效果的效果的粘附性。
一般蚀刻后配合冲压。也就是说，蚀刻可以依照冲压的模具设计成相应的模具冲压定位点。比如，成形，折弯的定位孔，可以在蚀刻时一并加工完成。还有一些连续模冲压的问题，也可以让蚀刻产品做好相应的定位。这样就很好的解决了蚀刻后配合冲压的问题。两种工艺相得益彰！互补互助，在市场上得到了广泛的应用。
究其原因，成立中国微半导体的是，美国当时进行了技术禁令对我国和限制蚀刻机对我国的出口。因此，中卫半导体不得不从最基础的65纳米刻蚀机启动产品的研究和开发。然而，11年后，中国微半导体公司的蚀刻机已经赶上流行的制造商和美国也解除了对我国的潘基文的刻蚀机的技术在2016年。