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添加CL可以提高蚀刻速度的原因足：在cucL2溶液中发牛铜的蚀刻反应时，生成的cu2c12不易溶于水．则在铜的表面形成一层cucl膜，这种膜能阻止蚀刻过程的进一步进行。这时过量的cl能与cu2cL2络台形成可溶性的[cucl3]2-从铜的表而溶解下求，从而提高了蚀刻速度。
我公司是一家专业从事五金蚀刻精密产品设计与生产为一体的高科技公司。公司拥有４条蚀刻生产线，具备先进的检测仪器，拥有蚀刻、抛光、冲压等工艺车间。可以承接大小批量、多样化订单。并满足各类客户的需求。
当这样的致密的或不密集的小孔的产品大量生产中，蚀刻工艺也能积极响应。 Zhuolida使用辊到辊玻璃曝光机，以产生蚀刻产品。它每天都会产生高达一万平方米。极大地满足的高端不锈钢小孔生产问题。当蚀刻过程解决了如何使在不锈钢小孔问题，不可缺少的环节需要由材料的厚度的限制。在正常情况下，在打开不锈钢孔时，所使用的材料必须根据材料的直径确定。例如，当厚度大于0.1mm，最小孔必须是要被处理的直径为0.2mm的小孔。如果无法通过蚀刻工艺来解决，激光切割此时应予以考虑。然而，激光切割过程中会产生一些燃烧的现象，这是很容易改变的材料的材料，并且这种现象，将残留物难以清洗或不能进行清洗。不适合用于0.1毫米小孔的完美解决方案。如果要求不是很高的话，你可以试试。
在第一临港新区投资论坛日前，平直的腰线阴，而中国微半导体设备有限公司的CEO，该公司提到的公司的进展，并指出，中国微半导体是继台积电的发展按照摩尔定律。后者的3nm的过程中一直在研究和开发了一年多，并预计将试生产，2021年初。
（1）脱脂：要使用的脱脂公式和相应的操作条件（温度，时间，搅拌是否是必要的，等等），工具来测试这些操作条件和所需的设备将被写入。如果有一个典型的脱脂工序，在实际制备过程中在蚀刻工艺期间，它通常写入按照典型的工艺规范来执行，这是没有必要写所有的过程和脱脂食谱。如果没有相应的典型工艺规范，脱脂和操作条件应写入。
铜对水的污染是印制电路生产中普遍存在的问题，氨碱蚀刻液的使用更加重了这个问题。因为铜与氨络合，不容易用离子交换法或碱沉淀法除去。所以，采用第二次喷淋操作的方法，用无铜的添加液来漂洗板子，大大地减少铜的排出量。然后，再用空气刀在水漂洗之前将板面上多余的溶液除去，从而减轻了水对铜和蚀刻的盐类的漂洗负担。
3.蚀刻的安全也应受到重视。当手动添加的化学品，气体掩模或面罩应佩戴防止事故的发生，尤其是氨的气味。大量的吸入有害于人体。
中国芯片突然抛出了“博王”，在5纳米刻蚀机是成功的，而特朗普不能切断电源！大家都知道，一个芯片需要经过许多环节，真正面对市场。设计，生存和取出是必不可少的。该核心技术，这是光刻机。有世界上唯一的7纳米光刻机的屈指可数。 AMSL被公司垄断，甚至成了非卖品项一会儿！中国的芯片突破至5nm，蚀刻机屡屡得手。一切都太快了。虽然特朗普限制中国的技术公司，杭州国继续实现技术突破。看来，削减供应只会让我们变得更加强大。你怎么看？
镀铬是泛指电镀铬，镀铬有两种的，一种是装饰铬，一种是硬铬。镀硬铬是比较好的一种增加表面硬度的方法，但它也是有优缺点的，那么精密蚀刻工艺后镀铬又有哪些优缺点呢？ 蚀...