光化学蚀刻工艺可以用在很多的金属加工中，包括压模、冲模、冲孔、激光和水射流切割以及线切割等。它的特殊优势包括可以加工厚度小为0.0005英寸的非常薄的材料可以加工复杂的几何结构，可以实现精确到金属厚度10％的尺寸公差；可以快速处理小批量或大批量产品，并且成本低廉。另外，光刻不会在金属中产生任何热应力或机械变形。下面溢格来为大家介绍一下这种工艺的公差和特征尺寸是多少。

光化学蚀刻工艺采用价格比较低但是可以快速成型的工具，可以适应一系列零件结构或单个结构的多次重复以加快开发过程。可以在2到3天内用0.02〜1.0 mm的厚度的金属板加工光蚀刻的零件。零件的尺寸范围很广，范围从0.004英寸零件到0.100英寸零件和24×60英寸零件。

通过光化学蚀刻产生的特征的位置公差通常在标称图的0.001英寸以内。蚀刻的尺寸公差是材料厚度和板尺寸的函数。一般规则是，公差越大，板的尺寸越大，零件成本越低。

对于小于0.010英寸的厚度，可以达到的小公差范围是材料厚度的10％。对于厚度为0.010〜0.020英寸的零件，公差范围为0.0015〜0.0025英寸。对于0.021〜0.035英寸的厚度，比较经济的公差是0.005英寸。对于超过0.035英寸的厚度，尺寸公差带将大约等于材料厚度的20％。

对于厚度小于0.02英寸的材料，小的孔或微槽的尺寸需要至少为材料厚度的110％；对于厚度超过0.020英寸的金属，它是材料厚度的120％。孔或凹槽之间的比较薄区域需要至少等于材料厚度。内半径和外半径的小尺寸等于材料厚度。

以上即是溢格关于光化学蚀刻工艺的公差和特征尺寸的相关介绍，希望可以帮到大家。www.shikeyg.com

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