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待蚀刻的金属，没有特别限制，但铝（A1），银，铜，或含有任意一种或多种这些金属为主要成分的，优选的合金，和A1或含有Al的合金是特别优选的。此外，在上述合金中的主要成分的比例通常大于50？?重量，优选大于80？y重量。在另一方面，成分（其它成分）的少量的下限通常为0.1??重量。

在17世纪后期，人们已经开始使用蚀刻技术来测量的测量工具的规模。作为一种工具，它已经从以前的作品的处理不同。它需要它的产品，这需要蚀刻技术，以达到一定的批量产品。质量的高稠度的一致性要求的规范来精确定义各处理过程的要求。因为生产批次的横向测量工具不是均匀相互校准，产生的测量工具将变得毫无意义。

工艺设计实际上是工艺设计。什么是工艺设计的目的是什么？如果你想蚀刻产品的图形，只告诉接线员的处理量和需求，然后把它给不同的员工进行处理想象一下，这是很难想象的产品的加工质量的一致性，根据你自己的仍然使用在不同的工人。

2.电化学蚀刻-这是使用的工件作为阳极，使用电解质来激发，并在阳极溶解，实现刻蚀的目的的方法。它的优点是环保，环境污染少，并没有伤害到工人的健康。的缺点是，蚀刻深度是小的。当在大面积上进行蚀刻，电流分布是不均匀的，深度为不容易控制。

我们有专门的除去钛溶液，将钛片在它以确保它在一分钟内除去，那么它可以在蚀刻机进行蚀刻。纯钛的腐蚀：钛的另一个显著特点是它的耐腐蚀性强。这是因为其对氧的亲和力特别强的。它可以形成在其表面上生成致密的氧化膜，其可以保护钛从培养基中。对于腐蚀。在大多数水溶液，钛金属可以生成表面的钝化氧化物膜。

这种方法通常用于蚀刻工艺的经济效益：是否有需要准备，处理任务的大，小，业务来源将扩大模具。在传统模切过程中，有不仅各种管芯（如平压式，轮压式，冲压，穿孔，压痕，等），但支撑的东西也凌乱，现在可以省略。

晶片被用作氢氟酸和HNO 3，和晶片被用作氢氟酸和NH4F氧化硅硅：蚀刻剂的选择是根据不同的加工材料确定，例如。当集成电路被化学蚀刻，被蚀刻的切口的几何形状是从几何切穿在航空航天工业的化学蚀刻没有什么不同。然而，它们之间的蚀刻深度差异是几个数量级，且前者小于1微米。然后，它可以达到几毫米，甚至更深。

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